[发明专利]层叠体及其制造方法、以及阻气膜及其制造方法有效
| 申请号： | 201680014989.9 | 申请日： | 2016-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN107405872B | 公开（公告）日： | 2020-07-24 |
| 发明（设计）人： | 小山浩志;佐藤尽;加纳满 | 申请（专利权）人： | 凸版印刷株式会社 |
| 主分类号： | B32B9/00 | 分类号： | B32B9/00;C23C14/20;C23C16/40 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 张苏娜;常海涛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种即使采用由高分子构成的基材也可提高原子层沉积膜的阻隔性的层叠体及其制造方法、以及阻气膜及其制造方法。该层叠体具有：由高分子材料构成的基材(11)、配置于基材(11)的表面(11a)的至少一部分上且由含有Ta元素的无机材料构成的底涂层(12)、以及以覆盖底涂层(12)的表面(12a)的方式配置的原子层沉积膜(13)。 | ||
| 搜索关键词： | 层叠 及其 制造 方法 以及 阻气膜 | ||
【主权项】：
一种层叠体，其特征在于，具有：由高分子材料构成的基材；配置于所述基材的表面的至少一部分上且由含有Ta元素的无机材料构成的底涂层；以及配置于所述底涂层的表面的至少一部分上的原子层沉积膜。
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