[发明专利]带有3D鳍式场效应晶体管结构的分裂栅非易失性存储器单元及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201680015252.9 申请日: 2016-02-26
公开(公告)号: CN107408499B 公开(公告)日: 2020-09-18
发明(设计)人: C-S.苏;J-W.杨;M-T.吴;H.V.陈;N.杜;C-M.陈 申请(专利权)人: 硅存储技术公司
主分类号: H01L21/28 分类号: H01L21/28;H01L27/11521;H01L29/423;H01L21/336;H01L29/788
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 胡莉莉;郑冀之
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种非易失性存储器单元,其包括具有鳍形上表面的半导体衬底,所述鳍形上表面具有顶部表面和两个侧表面。源极区和漏极区形成在所述鳍形上表面部分中,沟道区位于源极区和漏极区之间。导电浮栅包括沿所述顶部表面的第一部分延伸的第一部分,以及分别沿所述两个侧表面的第一部分延伸的第二部分和第三部分。导电控制栅包括沿所述顶部表面的第二部分延伸的第一部分、分别沿所述两个侧表面的第二部分延伸的第二部分和第三部分、沿所述浮栅第一部分的至少一些向上并在其上方延伸的第四部分、以及分别延伸出并在所述浮栅第二部分和第三部分的至少一些上方延伸的第五部分和第六部分。
搜索关键词: 带有 场效应 晶体管 结构 分裂 非易失性存储器 单元 及其 制作方法
【主权项】:
一种非易失性存储器单元,包括:第一导电类型的半导体衬底,所述半导体衬底具有鳍形上表面部分,所述鳍形上表面部分具有顶部表面和两个侧表面;在所述鳍形上表面部分中不同于所述第一导电类型的第二导电类型的间隔开的第一区和第二区,沟道区在所述第一区和所述第二区之间延伸;其中所述沟道区具有包括所述顶部表面的第一部分和所述两个侧表面的第一部分的第一部分,并且具有包括所述顶部表面的第二部分和所述两个侧表面的第二部分的第二部分,导电浮栅,所述导电浮栅包括:第一部分,所述第一部分沿所述顶部表面的所述第一部分延伸并且与其绝缘;第二部分,所述第二部分沿所述两个侧表面中的一个的所述第一部分延伸并与其绝缘,和第三部分,所述第三部分沿所述两个侧表面中的另一个的所述第一部分延伸并与其绝缘;导电控制栅,所述导电控制栅包括:第一部分,所述第一部分沿所述顶部表面的所述第二部分延伸并与其绝缘,第二部分,所述第二部分沿所述两个侧表面中的一个的所述第二部分延伸并与其绝缘,第三部分,所述第三部分沿所述两个侧表面中的另一个的所述第二部分延伸并与其绝缘,第四部分,所述第四部分沿所述浮栅第一部分中的至少一些向上并在其上方延伸并与其绝缘,第五部分,所述第五部分延伸出并在所述浮栅第二部分的至少一些上方延伸并与其绝缘,和第六部分,所述第六部分延伸出并在所述浮栅第三部分的至少一些上方延伸并与其绝缘。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于硅存储技术公司,未经硅存储技术公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201680015252.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top