[发明专利]基板污染物分析装置及基板污染物分析方法在审
申请号: | 201680015283.4 | 申请日: | 2016-03-10 |
公开(公告)号: | CN107567652A | 公开(公告)日: | 2018-01-09 |
发明(设计)人: | 田弼权;丘大焕;朴准虎;朴相绚;成墉益 | 申请(专利权)人: | 非视觉污染分析科学技术有限公司;田弼权;丘大焕 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01L21/02 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司11286 | 代理人: | 孙昌浩,李盛泉 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的基板污染物分析装置,作为将从分析对象基板利用扫描喷嘴扫描的样品溶液通过流路从所述扫描喷嘴移送到分析器的基板污染物分析装置,其特征在于,包括样品管,具有装载所述样品溶液的空间;转换阀,与所述样品管结合,至少具有将所述样品溶液装载到所述样品管的装载部位和将所述装载的所述样品溶液喷射到所述分析器处的喷射部位,所述样品溶液装载到所述样品管时所述样品溶液的前后包括气体区间,还包括传感器,设置在所述样品管且区分感测所述气体区间与所述样品溶液。 | ||
搜索关键词: | 污染物 分析 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种基板污染物分析装置,作为将从分析对象基板利用扫描喷嘴扫描的样品溶液通过流路从所述扫描喷嘴移送到分析器的基板污染物分析装置,其特征在于,包括:样品管,具有装载所述样品溶液的空间;转换阀,与所述样品管结合,至少具有将所述样品溶液装载到所述样品管的装载部位和将所述装载的所述样品溶液喷射到所述分析器处的喷射部位,所述样品溶液装载到所述样品管时所述样品溶液的前后包括气体区间,还包括:传感器,设置在所述样品管且区分感测所述气体区间与所述样品溶液。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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