[发明专利]使用一个或多个谐振器的方法有效

专利信息
申请号: 201680015616.3 申请日: 2016-03-04
公开(公告)号: CN107430244B 公开(公告)日: 2019-10-22
发明(设计)人: 伊凡·法维罗;克里斯多夫·贝克;爱德华多·吉尔·桑托斯 申请(专利权)人: 狄德罗-巴黎第七大学;国家科学研究中心
主分类号: G02B6/293 分类号: G02B6/293;G02B6/12;G02B6/136
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 王小衡;杨生平
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 发明涉及一种用于以目标谐振波长来调谐至少一个微型和/或纳米光子谐振器的方法,所述谐振器具有限定所述谐振器的谐振波长的尺寸,所述谐振器被浸入在含有离子的流体中,使得谐振器被所述流体包围,其中所述方法包括将具有等于谐振波长的光波长的光注入到谐振器中,使得被注入的光在谐振器内谐振并且触发由包含离子的包围流体所能进行的光电化学蚀刻工艺的步骤,所述蚀刻工艺通过放大了光子谐振器中的光强度的光学谐振而被增强,蚀刻减小了谐振器的尺寸,从而降低和调谐了光子谐振器的谐振波长。
搜索关键词: 使用 一个 谐振器 方法
【主权项】:
1.一种用于以目标谐振波长(λt)来调谐至少一个微型和/或纳米光子谐振器(10)的方法,所述谐振器具有限定了所述谐振器(10)的谐振波长(λr)的尺寸,所述谐振器(10)被浸入在包含离子的流体(60)中,使得所述谐振器被所述流体包围,其中所述方法包括将具有等于所述谐振波长(λr)的光波长的光注入到所述谐振器(10)中,使得被注入的光(λ)在所述谐振器(10)内谐振并触发由包含离子的包围流体(60)所能进行的光电化学蚀刻工艺的步骤,所述蚀刻工艺通过放大了所述光子谐振器(10)中的光强度的光学谐振而被增强,所述蚀刻减小了所述光子谐振器的尺寸,从而降低和调谐所述光子谐振器(10)的谐振波长(λr)。
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