[发明专利]制备金/钯气体分离膜的方法有效
| 申请号： | 201680016539.3 | 申请日： | 2016-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN107427763B | 公开（公告）日： | 2021-06-18 |
| 发明（设计）人： | J·C·索凯蒂斯;K·阿扎德 | 申请（专利权）人： | 国际壳牌研究有限公司 |
| 主分类号： | B01D53/22 | 分类号： | B01D53/22;B01D69/12;B01D71/02 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 陈文平;黄海波 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于制备抗一氧化碳的金合金气体分离膜体系的方法。在管状多孔衬底的表面上提供钯层，其中钯层的平均表面粗糙度(Sa)小于2.5微米，然后将管状多孔衬底浸入到氯金酸或其盐的溶液中。周期性地将一定体积的过氧化氢引入到溶液中，同时以设定速率使管状多孔衬底旋转一段时间，以便在钯层上沉积具有期望均匀度和期望厚度的金层。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 气体 分离 方法 | ||
【主权项】：
一种用于制备金/钯气体分离膜体系的方法，其中所述方法包括：在管状多孔衬底的表面上提供钯层，所述管状多孔衬底由外径、长度以及所述长度的中点界定，其中所述钯层的平均表面粗糙度(Sa)小于2.5微米；将具有所述钯层的所述管状多孔衬底浸入到一定体积的氯金酸或其盐的溶液中；以及周期性地将一定体积的过氧化氢引入到所述溶液中，同时以设定速率使所述管状多孔衬底旋转一段时间，以便在所述钯层上沉积具有期望均匀度和期望厚度的金层。
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