[发明专利]传感器设备有效

专利信息
申请号: 201680016890.2 申请日: 2016-03-17
公开(公告)号: CN107431077B 公开(公告)日: 2021-10-15
发明(设计)人: A.沃伊西克;H.哈尔布里特;K.奥恩;T.伯斯克 申请(专利权)人: 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 郑瑾彤;杜荔南
地址: 德国雷*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种传感器设备,包括:载体和透镜装置,所述载体具有平坦的载体表面,在所述载体表面上布置多个光电检测器,每一个光电检测器具有背离载体表面的光敏传感器表面,所述透镜装置与传感器表面相对并且具有光轴,以用于将电磁辐射光学成像到传感器表面上,使得透镜装置可以将电磁辐射成像在传感器表面上,其中所述多个光电检测器包括至少一个光电检测器,所述至少一个光电检测器的传感器表面具有至少一个性质,所述至少一个性质不同于所述多个光电检测器中基于透镜装置的光轴而布置成在载体表面上比所述至少一个光电检测器更靠近光轴的光电检测器的传感器表面的性质,以便减少透镜装置的光学成像误差。本发明还涉及激光雷达系统和车辆。
搜索关键词: 传感器 设备
【主权项】:
一种传感器设备(501,1001),包括:‑ 载体(503),‑ 所述载体(503)具有平坦的载体表面(507),‑ 在所述载体表面(507)上布置大量光电检测器(505,701),‑ 所述光电检测器各自包括光敏传感器区域(509),所述光敏传感器区域(509)远离所述载体表面(507),以及‑ 透镜装置(101),布置为与所述传感器区域(509)相对并且包括光轴(105),以用于将电磁辐射光学成像到所述传感器区域(509)上,使得所述透镜装置(101)能够将电磁辐射成像到所述传感器区域(509),‑ 其中所述大量光电检测器(505,701)包括至少一个光电检测器(505,701),所述至少一个光电检测器(505,701)的传感器区域(509)包括与所述大量光电检测器(505,701)中以下光电检测器(505,701)的传感器区域(509)的性质(513,515,517,1003,1005)不同的至少一个性质(513,515,517,1003,1005),即该光电检测器相对于所述透镜装置(101)的所述光轴(105)布置成在所述载体表面(507)上比所述至少一个光电检测器(505,701)更靠近所述光轴(105),以便减少所述透镜装置(101)的光学像差。
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