[发明专利]上层膜形成用组合物、图案形成方法、抗蚀剂图案及电子器件的制造方法有效
| 申请号： | 201680017158.7 | 申请日： | 2016-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN107407887B | 公开（公告）日： | 2021-06-08 |
| 发明（设计）人： | 畠山直也;井上尚纪;丹吴直纮;白川三千纮;后藤研由 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;C08F20/36;C08F26/02;C08K5/32;C08L33/10;C08L33/16;C08L101/00;G03F7/32;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 薛海蛟 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种上层膜形成用组合物，其涂布于利用感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的抗蚀剂膜上而形成上层膜，且含有树脂X及具有自由基捕获基的化合物A。一种图案形成方法，其具备：工序a，将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上，从而形成抗蚀剂膜；工序b，通过在抗蚀剂膜上涂布上述上层膜形成用组合物，在抗蚀剂膜上形成上层膜；工序c，将形成有上层膜的抗蚀剂膜进行曝光；及工序d，使用含有有机溶剂的显影液对经曝光的抗蚀剂膜进行显影来形成图案。 | ||
| 搜索关键词： | 上层 形成 组合 图案 方法 抗蚀剂 电子器件 制造 | ||
【主权项】：
一种上层膜形成用组合物，其涂布于利用感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的抗蚀剂膜上而形成上层膜，所述上层膜形成用组合物含有树脂X及具有自由基捕获基的化合物A。
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