[发明专利]制备挠性有机‑无机层压材料的方法在审
申请号: | 201680017247.1 | 申请日: | 2016-03-15 |
公开(公告)号: | CN107429390A | 公开(公告)日: | 2017-12-01 |
发明(设计)人: | M·阿尔夫;J·弗朗克;T·阿德尔曼;S·克洛茨 | 申请(专利权)人: | 巴斯夫涂料有限公司 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/455 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人: | 张双双,刘金辉 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明属于制备挠性有机‑无机层压材料的方法的领域。具体而言,本发明涉及一种制备层压材料的方法,该方法包括至少两次包含以下的序列(a)通过进行3至150个原子层沉积方法的循环来沉积无机层,和(b)通过进行1至3个分子层沉积方法的循环来沉积包含氮的有机层。 | ||
搜索关键词: | 制备 有机 无机 层压 材料 方法 | ||
【主权项】:
一种制备层压材料的方法,包括至少两次包含以下的序列:(a)通过进行3至150个原子层沉积方法的循环来沉积无机层,和(b)通过进行1至3个分子层沉积方法的循环来沉积包含氮的有机层。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的