[发明专利]用于制造包括嵌段共聚物的厚的且高周期的有序膜的方法在审
| 申请号： | 201680017307.X | 申请日： | 2016-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN107430331A | 公开（公告）日： | 2017-12-01 |
| 发明（设计）人： | X.舍瓦利耶;R.伊努布利;C.纳瓦罗;C.尼科利特 | 申请（专利权）人： | 阿科玛法国公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于制造厚(典型地>20nm)的和在纳米尺度上高周期(典型地>10nm)的有序膜的方法，所述有序膜包括嵌段共聚物(BCP)。本发明也涉及用于制造所述厚的有序膜的组合物，和涉及由此制造的有序膜，其可特别地用作光刻领域中的掩模。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 包括 共聚物 周期 有序 方法 | ||
【主权项】：
用于获得具有大于20nm的厚度和大于10nm的周期的有序膜的方法，所述有序膜包括至少一种具有有序‑无序转变温度(TODT)和至少一种Tg的嵌段共聚物与至少一种不具有TODT的化合物的混合物，所述化合物在如下之内选择：嵌段共聚物、增塑剂、填料、光或热稳定剂、光引发剂、离子性化合物聚合物或非离子性化合物聚合物，该至少一种具有有序‑无序转变温度(TODT)和至少一种Tg的嵌段共聚物与至少一种不具有TODT的化合物的混合物具有低于单独的嵌段共聚物的TODT的TODT，所述方法包括下列步骤：‑将至少一种具有TODT的嵌段共聚物与至少一种不具有TODT的化合物在溶剂中混合，‑将该混合物沉积于表面上，‑在嵌段共聚物的最高Tg与所述混合物的TODT之间的温度下将沉积在所述表面上的混合物固化。
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