[发明专利]具有受控铜离子的制备方法在审
| 申请号： | 201680017702.8 | 申请日： | 2016-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN107406832A | 公开（公告）日： | 2017-11-28 |
| 发明（设计）人： | 山本圣子;土井广幸;寺岛勇 | 申请（专利权）人： | 中外制药株式会社 |
| 主分类号： | C12N5/10 | 分类号： | C12N5/10;A61K38/00;C12N5/071;C12P21/08 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 张国梁 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种细胞培养方法，其包括将含有细胞的种子培养基添加到初始培养基中并开始在初始培养基中培养细胞，其中初始培养基中具有添加到其中的源自生物体的培养基添加剂，且通过在细胞培养开始时初始培养基的铜含量来控制制备的蛋白质中C‑末端酰胺化种类的量。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 受控 离子 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种细胞培养方法，其包括将含有细胞的种子培养基添加到初始培养基中并开始在所述初始培养基中培养所述细胞，其中所述初始培养基中具有添加到其中的源自生物体的培养基添加剂，且在细胞培养开始时所述初始培养基的铜含量不超过0.02ppm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中外制药株式会社，未经中外制药株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201680017702.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
