[发明专利]喷墨打印头的制造方法有效
申请号: | 201680017886.8 | 申请日: | 2016-03-10 |
公开(公告)号: | CN107405922B | 公开(公告)日: | 2020-06-30 |
发明(设计)人: | L·焦瓦诺拉;S·巴尔迪;A·梅里亚多;P·斯基纳 | 申请(专利权)人: | 锡克拜控股有限公司 |
主分类号: | B41J2/16 | 分类号: | B41J2/16 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及喷墨打印头的制造方法,其包括:设置硅基板(10),硅基板(10)包括主动喷射元件(11);设置液压结构层(20),液压结构层(20)用于限定液压回路,液压回路被构造成能够引导墨的流动;设置硅孔板(30),硅孔板(30)具有用于墨的喷射的多个喷嘴(31);将硅基板(10)与液压结构层(20)和硅孔板(30)组装;其中,设置硅孔板(30)包括:设置硅晶圆(40),硅晶圆(40)具有由位于硅晶圆(40)的相反两侧的第一表面(41)和第二表面(42)定界的平坦延伸部;在第二表面(42)进行薄化步骤,以便从第二表面(42)移除具有预设高度(H)的中央部(43),在薄化步骤之后,硅晶圆(40)由基部(44)和外周部(45)形成,其中基部(44)具有平坦延伸部,外周部(45)相对于基部(44)的平坦延伸部横向地从基部(44)延伸;以及在硅晶圆(40)中形成多个通孔,各通孔均限定用于墨的喷射的相对应的喷嘴。根据本发明的方法的特征在于,硅晶圆(40)是绝缘体硅晶圆,其中绝缘体硅晶圆包括与第一表面(41)相邻的硅器件层(38)、与第二表面(42)相邻的硅处理层(37)以及位于硅器件层(38)与硅处理层(37)之间的绝缘体层(39)。 | ||
搜索关键词: | 喷墨 打印头 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种喷墨打印头的制造方法,其包括:‑设置硅基板(10),所述硅基板(10)包括主动喷射元件(11);‑设置液压结构层(20),所述液压结构层(20)用于限定液压回路,所述液压回路被构造成能够引导墨的流动;‑设置硅孔板(30),所述硅孔板(30)具有用于所述墨的喷射的多个喷嘴(31);‑将所述硅基板(10)与所述液压结构层(20)和所述硅孔板(30)组装;其中,设置所述硅孔板(30)包括:‑设置硅晶圆(40),所述硅晶圆(40)具有由位于所述硅晶圆(40)的相反两侧的第一表面(41)和第二表面(42)定界的平坦延伸部;‑在所述第二表面(42)进行薄化步骤,以便从所述第二表面(42)移除具有预设高度(H)的中央部(43),在所述薄化步骤之后,所述硅晶圆(40)由基部(44)和外周部(45)形成,其中所述基部(44)具有平坦延伸部,所述外周部(45)相对于所述基部(44)的平坦延伸部横向地从所述基部(44)延伸;‑在所述硅晶圆(40)中形成多个通孔,各所述通孔均限定用于所述墨的喷射的相对应的喷嘴(31),其特征在于,所述硅晶圆(40)是绝缘体硅晶圆,其中所述绝缘体硅晶圆包括与所述第一表面(41)相邻的硅器件层(38)、与所述第二表面(42)相邻的硅处理层(37)以及位于所述硅器件层(38)与所述硅处理层(37)之间的绝缘体层(39)。
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