[发明专利]喷墨打印头的制造方法有效

专利信息
申请号: 201680017886.8 申请日: 2016-03-10
公开(公告)号: CN107405922B 公开(公告)日: 2020-06-30
发明(设计)人: L·焦瓦诺拉;S·巴尔迪;A·梅里亚多;P·斯基纳 申请(专利权)人: 锡克拜控股有限公司
主分类号: B41J2/16 分类号: B41J2/16
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 瑞士*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及喷墨打印头的制造方法,其包括:设置硅基板(10),硅基板(10)包括主动喷射元件(11);设置液压结构层(20),液压结构层(20)用于限定液压回路,液压回路被构造成能够引导墨的流动;设置硅孔板(30),硅孔板(30)具有用于墨的喷射的多个喷嘴(31);将硅基板(10)与液压结构层(20)和硅孔板(30)组装;其中,设置硅孔板(30)包括:设置硅晶圆(40),硅晶圆(40)具有由位于硅晶圆(40)的相反两侧的第一表面(41)和第二表面(42)定界的平坦延伸部;在第二表面(42)进行薄化步骤,以便从第二表面(42)移除具有预设高度(H)的中央部(43),在薄化步骤之后,硅晶圆(40)由基部(44)和外周部(45)形成,其中基部(44)具有平坦延伸部,外周部(45)相对于基部(44)的平坦延伸部横向地从基部(44)延伸;以及在硅晶圆(40)中形成多个通孔,各通孔均限定用于墨的喷射的相对应的喷嘴。根据本发明的方法的特征在于,硅晶圆(40)是绝缘体硅晶圆,其中绝缘体硅晶圆包括与第一表面(41)相邻的硅器件层(38)、与第二表面(42)相邻的硅处理层(37)以及位于硅器件层(38)与硅处理层(37)之间的绝缘体层(39)。
搜索关键词: 喷墨 打印头 制造 方法
【主权项】:
一种喷墨打印头的制造方法,其包括:‑设置硅基板(10),所述硅基板(10)包括主动喷射元件(11);‑设置液压结构层(20),所述液压结构层(20)用于限定液压回路,所述液压回路被构造成能够引导墨的流动;‑设置硅孔板(30),所述硅孔板(30)具有用于所述墨的喷射的多个喷嘴(31);‑将所述硅基板(10)与所述液压结构层(20)和所述硅孔板(30)组装;其中,设置所述硅孔板(30)包括:‑设置硅晶圆(40),所述硅晶圆(40)具有由位于所述硅晶圆(40)的相反两侧的第一表面(41)和第二表面(42)定界的平坦延伸部;‑在所述第二表面(42)进行薄化步骤,以便从所述第二表面(42)移除具有预设高度(H)的中央部(43),在所述薄化步骤之后,所述硅晶圆(40)由基部(44)和外周部(45)形成,其中所述基部(44)具有平坦延伸部,所述外周部(45)相对于所述基部(44)的平坦延伸部横向地从所述基部(44)延伸;‑在所述硅晶圆(40)中形成多个通孔,各所述通孔均限定用于所述墨的喷射的相对应的喷嘴(31),其特征在于,所述硅晶圆(40)是绝缘体硅晶圆,其中所述绝缘体硅晶圆包括与所述第一表面(41)相邻的硅器件层(38)、与所述第二表面(42)相邻的硅处理层(37)以及位于所述硅器件层(38)与所述硅处理层(37)之间的绝缘体层(39)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于锡克拜控股有限公司,未经锡克拜控股有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201680017886.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top