[发明专利]膜厚测定方法、膜厚测定装置、研磨方法及研磨装置有效
| 申请号： | 201680018290.X | 申请日： | 2016-04-05 |
| 公开（公告）号： | CN107429989B | 公开（公告）日： | 2020-05-12 |
| 发明（设计）人： | 金马利文 | 申请（专利权）人： | 株式会社荏原制作所 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06;B24B37/013;B24B49/04;B24B49/12;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人： | 肖华 |
| 地址： | 日本东京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种通过分析来自基板的反射光中包含的光学信息来检测膜厚的膜厚测定方法。膜厚测定方法包含生成表示来自基板(W)的反射光强度与波长的关系的分光波形，对分光波形进行傅里叶变换处理，决定频率成分的强度及对应的膜厚，并决定频率成分强度的多个极大值M1、M2，从分别对应于极大值M1、M2的膜厚t1、t2中，按照选择基准选择1个膜厚的工序。选择基准选择第N大的膜厚，或选择第N小的膜厚，N是预定的自然数。 | ||
| 搜索关键词： | 测定 方法 装置 研磨 | ||
【主权项】：
一种膜厚测定方法，其特征在于：对在表面形成有膜的基板照射光，生成表示来自所述基板的反射光强度与波长的关系的分光波形，对所述分光波形进行傅里叶变换处理，决定频率成分的强度及对应的膜厚，决定所述频率成分的强度的多个极大值，从分别对应于所述多个极大值的多个膜厚中，按照预先设定的选择基准选择1个膜厚。
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