[发明专利]用于涂覆大面积的基板的设备

摘要

本发明涉及一种用于涂覆基板(8)的设备，所述设备具有进气机构(2)，所述进气机构具有具备排气面的气体分配腔(5)，所述气体分配腔具有基本上均匀地在所述排气面(2′)上分布布置的排气孔(6)，输入气体分配腔(5)中的处理气体通过所述排气孔能够进入处理室(7)并且到达布置在处理室的底板上的基板(8)。数平米大的排气面由多个位于一个共同的平面中的排气板(10、11、12、13、14、15、16、17、18、19)构成，其中，相邻的排气板(10‑19)在拆分区的范围内相互邻接，其中，所述拆分区远离对气体分配腔(5)的体积进行限定的侧壁(5′)布置。

主权项

一种用于涂覆基板(8)的设备，所述设备具有进气机构(2)，所述进气机构具有具备排气面的气体分配腔(5)，所述气体分配腔具有基本上均匀地在所述排气面(2′)上分布布置的排气孔(6)，输入气体分配腔(5)中的处理气体通过所述排气孔能够进入处理室(7)并且到达布置在处理室的底板上的基板(8)，其中，所述排气面由多个位于一个共同的平面中的排气板(10、11、12、13、14、15、16、17、18、19)构成，所述排气板在拆分区(10′、10″、11′、11″、12′、12″、13′、13″、14″、15′、16′、17′、18′)的范围内相互邻接，所述拆分区远离对气体分配腔(5)的体积进行限定的侧壁(5′)布置，其特征在于，两个相邻的排气板(10‑19)沿其共同的拆分区(10′、10″、11′、11″、12′、12″、13′、13″、14″、15′、16′、17′、18′)铰链式地相对彼此移动，以便调整排气板(10‑19)相对于处理室的底板的间距。