[发明专利]光学裸片到数据库检验有效

专利信息
申请号: 201680020114.X 申请日: 2016-04-01
公开(公告)号: CN107454980B 公开(公告)日: 2022-07-01
发明(设计)人: K·韦尔斯;李晓春;高理升;罗涛;M·胡贝尔 申请(专利权)人: 科磊股份有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 张世俊
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供用于检测晶片上的缺陷的方法和系统。一种系统包含经配置以基于用于印刷在所述晶片上的设计的信息产生呈现图像的一或多个计算机子系统。所述呈现图像是由光学检验子系统针对印刷在所述晶片上的所述设计产生的图像的模拟。所述计算机子系统也经配置用于比较所述呈现图像与由所述光学检验子系统产生的所述晶片的光学图像。使用光罩将所述设计印刷在所述晶片上。另外,所述计算机子系统经配置用于基于所述比较的结果检测所述晶片上的缺陷。
搜索关键词: 光学 裸片到 数据库 检验
【主权项】:
一种经配置以检测晶片上的缺陷的系统,其包括:光学检验子系统,其包括至少光源和检测器,其中所述光源经配置以产生引导到晶片的光,且其中所述检测器经配置以检测来自所述晶片的光且响应于所述所检测光而产生图像;以及一或多个计算机子系统,其经配置用于:基于用于印刷在所述晶片上的设计的信息产生呈现图像,其中所述呈现图像是由所述光学检验子系统针对印刷在所述晶片上的所述设计产生的图像的模拟;比较所述呈现图像与由所述光学检验子系统产生的所述晶片的光学图像,其中使用光罩将所述设计印刷在所述晶片上;以及基于所述比较的结果检测所述晶片上的缺陷。
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