[发明专利]用于腔室清洁终点的原位蚀刻速率确定有效

专利信息
申请号: 201680021498.7 申请日: 2016-03-28
公开(公告)号: CN107466420B 公开(公告)日: 2019-10-25
发明(设计)人: S·巴蒂亚;A·M·帕特尔;A·A·哈贾 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 侯颖媖;金红莲
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 本文所述的实施例涉及用于确定清洁终点的方法。可在清洁腔室环境中执行第一等离子体清洁工艺,以确定由第一斜率所限定的清洁时间函数。可在非清洁腔室环境中执行第二等离子体清洁工艺,以确定由第二斜率所限定的清洁时间函数。可比较第一及第二斜率以确定清洁终点时间。
搜索关键词: 用于 清洁 终点 原位 蚀刻 速率 确定
【主权项】:
1.一种终点检测的方法,包含以下步骤:在清洁腔室环境中执行第一等离子体清洁工艺;在所述第一等离子体清洁工艺期间,以两个或更多时间间隔确定第一蚀刻速率;确定通过所述两个或更多时间间隔所限定的第一斜率,其中所述第一斜率有关于时间限定所述第一蚀刻速率;在非清洁腔室环境中执行第二等离子体清洁工艺;在所述第二等离子体清洁工艺期间,以两个或更多时间间隔确定第二蚀刻速率;确定由所述两个或更多时间间隔所限定的第二斜率,其中所述第二斜率有关于时间限定所述第二蚀刻速率;及比较所述第一斜率与所述第二斜率,以确定清洁终点时间。
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