[发明专利]结构物的制造方法有效
| 申请号： | 201680022785.X | 申请日： | 2016-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN107533155B | 公开（公告）日： | 2019-05-14 |
| 发明（设计）人： | 吉泽宏俊;园田慎一郎;吉弘达矢 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/118 | 分类号： | G02B1/118;B32B3/30;B32B7/02;C03C17/245;C03C17/25 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 葛凡 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种结构物的制造方法，其为具有通过进行温水处理而形成的透明的微细凹凸结构体的结构物的制造方法，该方法形成更微细的凹凸结构。一种结构物的制造方法，其为制造具有基材(11)及通过进行温水处理而形成于表面的透明的微细凹凸结构体(12c)的结构物(10)的结构物的制造方法，该结构物的制造方法具有：第一工序，在基材(11)上形成透明的微细凹凸结构体(i2c)的前体膜(12)；第二工序，在前体膜(12)的表面形成微细凹凸结构；及第三工序，对形成有微细凹凸结构的前体膜(12a)进行温水处理来形成透明的微细凹凸结构体(12c)，在第二工序中所形成的微细凹凸结构的凹凸的空间频率的峰值v0满足v＜v0(式I)。在式I中，v0为微细凹凸结构的空间频率的峰值，v为在前体膜的表面不形成微细凹凸结构时的透明的微细凹凸结构体的空间频率的峰值。 | ||
| 搜索关键词： | 结构 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种结构物的制造方法，其为制造具有基材及通过进行温水处理而形成于表面的透明的微细凹凸结构体的结构物的结构物的制造方法，其中，该结构物的制造方法具有：第一工序，在所述基材上形成所述透明的微细凹凸结构体的前体膜；其特征在于，该结构物的制造方法进一步具有：第二工序，在所述前体膜的表面形成微细凹凸结构；及第三工序，对形成有所述微细凹凸结构的所述前体膜进行温水处理来形成所述透明的微细凹凸结构体，在所述第二工序中所形成的所述微细凹凸结构满足下述式I，ν＜ν0 式I在式I中，ν0为在第二工序中所形成的微细凹凸结构的空间频率的峰值，ν为在前体膜的表面不形成微细凹凸结构而在与第三工序中的温水处理相同的条件下进行温水处理时所得到的透明的微细凹凸结构体的空间频率的峰值。
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