[发明专利]除草化合物

摘要

本发明涉及具有式(I)的除草杂芳基‑烷基‑氧基‑取代的杂芳基/苯基‑哒嗪‑二酮和杂芳基‑烷基‑氧基‑取代的杂芳基‑/苯基‑哒嗪酮衍生物，以及用于制备此类衍生物的方法和中间体。本发明进一步延伸到包括此类衍生物的除草组合物，连同此类化合物和组合物在有用植物的作物中控制不希望的植物生长中的用途，特别是在控制杂草例如阔叶双子叶杂草中的用途。

主权项

一种具有式(I)的化合物或者其盐或N‑氧化物，R1选自下组，该组由以下各项组成：C1‑C4烷基、C3‑C6环烷基、C1‑C2烷氧基‑C1‑C2烷基、C2‑C4烯基、C1‑C4卤代烷基、C2‑C4卤代烯基、C2‑C4炔基和C2‑C4卤代炔基；R2选自下组，该组由以下各项组成：氢、卤素、氰基、C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C1‑C6卤代烷氧基、C1‑C3卤代烷氧基‑C1‑C3烷基‑、C1‑C6烷氧基、C1‑C3烷氧基‑C1‑C3烷基、C1‑C3烷氧基‑C1‑C3烷氧基‑C1‑C3烷基‑、C3‑C6环烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6卤代烯基、C2‑C6炔基、C1‑C6羟烷基‑、C1‑C6烷基羰基‑、C1‑C6烷基‑S(O)m‑、氨基、C1‑C6烷基氨基、C1‑C6二烷基氨基、‑C(C1‑C3烷基)＝N‑O‑C1‑C3烷基和C2‑C6卤代炔基；G是氢、或C(O)R3；R3选自下组，该组由以下各项组成：C1‑C6烷基、C1‑C6烯基、C1‑C6炔基、C1‑C6烷氧基、C1‑C6烷基‑S‑、‑NR4R5以及任选地被一个或多个R6取代的苯基；R4和R5独立地选自下组，该组由以下各项组成：C1‑C6烷基和C1‑C6烷氧基，或R4和R5一起可以形成吗啉基环；R6选自下组，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C1‑C3烷基、C1‑C3卤代烷基、C1‑C3烷氧基以及C1‑C3卤代烷氧基；并且T是包含1、2或3个独立地选自氮、氧和硫的杂原子的5或6元单环杂芳基环系统，所述5元环系统被一个或多个选自X、Y和R7的基团取代，并且所述6元环系统被一个或多个选自X1、X2、X3、X4和R7的基团取代，并且其中该氧基‑烷基‑D部分和该哒嗪二酮/哒嗪酮部分经由环T连接，使得它们相对于彼此位于邻位；或者T是具有式(Tp)的经取代的苯环每个X、X3、X23以及每个Y独立地是氢、C1‑C3烷基、C1‑C3烷氧基、C1‑C3卤代烷基、C1‑C3卤代烷氧基、或卤素；X1是氧代基、C1‑C3烷基、C1‑C3烷氧基、C1‑C3卤代烷基、C1‑C3卤代烷氧基、或卤素；X2和X4独立地是氢、C1‑C3烷基、C1‑C3烷氧基、C1‑C3卤代烷基、C1‑C3卤代烷氧基、氧代基、或卤素；X21是C1‑C3烷基、C1‑C3烷氧基、C1‑C3卤代烷基、C1‑C3卤代烷氧基、或卤素；X22和X24独立地是氢、C1‑C3烷基、C1‑C3烷氧基、C1‑C3卤代烷基、C1‑C3卤代烷氧基、或卤素；R7是氢、C1‑C3烷基、C1‑C3烷氧基、C1‑C3卤代烷基、C1‑C3卤代烷氧基；A表示与该氧基‑烷基‑D部分的附接点并且B表示与该哒嗪二酮/哒嗪酮部分的附接点；并且D是包含1、2或3个独立地选自氧、氮和硫的杂原子的经取代的或未经取代的5或6元单环杂芳基环，并且其中当D被取代时，其在至少一个具有R8的环碳原子上和/或具有R9的环氮原子上被取代；每个R8独立地是氧、羟基、卤素、氰基、C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C1‑C6卤代烷氧基、C1‑C3卤代烷氧基‑C1‑C3烷基‑、C1‑C6烷氧基、C1‑C3烷氧基‑C1‑C3烷基、C1‑C3烷氧基‑C1‑C3烷氧基‑C1‑C3烷基‑、C3‑C6环烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6卤代烯基、C2‑C6炔基、C1‑C6羟基烷基‑、C1‑C6烷基羰基‑、C1‑C6烷基‑S(O)m‑、氨基、C1‑C6烷基氨基、C1‑C6二烷基氨基、‑C(C1‑C3烷基)＝N‑邻位C1‑C3烷基和C2‑C6卤代炔基；每个R9独立地是C1‑C4烷基、C3‑C6烷氧基、C1‑C2烷氧基‑C1‑C2烷基、C2‑C4烯基、C1‑C4卤代烷基、C2‑C4卤代烯基、C2‑C4炔基或C2‑C4卤代炔基；并且M是0、1或2的整数。