[发明专利]用于处理半导体传感器阵列装置的方法有效
| 申请号： | 201680025763.9 | 申请日： | 2016-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN107530739B | 公开（公告）日： | 2021-04-27 |
| 发明（设计）人： | J.鲍尔;P.瓦戈纳;S.帕克 | 申请（专利权）人： | 生命技术公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;C11D3/16;G01N27/414;H01L21/02;C11D7/50;C11D11/00;C11D3/43;C11D1/22;B08B9/08;C11D7/34;C11D3/34;B05D3/00;B05D5/12 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 肖靖泉 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种处理传感器阵列的方法，所述传感器阵列包括多个传感器，优选CHEMFET，以及隔离结构，其中所述多个传感器的一个传感器具有暴露在所述传感器阵列的表面处的传感器垫且所述隔离结构安置于所述传感器垫与所述多个传感器的其它传感器的传感器垫之间，所述方法包含使所述传感器垫和所述隔离结构暴露于包括有机硅化合物，优选聚二甲基硅氧烷(PDMS)和第一非水性载体的非水性有机硅溶液；将包括有机酸，优选十二烷基苯磺酸(DBSA)，以及第二非水性载体的酸溶液施加到所述传感器垫；以及从所述传感器垫和所述隔离结构冲洗所述酸溶液。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 处理 半导体 传感器 阵列 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种处理传感器阵列的方法，所述传感器阵列包括多个传感器和隔离结构，所述多个传感器的一个传感器具有暴露在所述传感器阵列的表面处的传感器垫，所述隔离结构安置于所述传感器垫与所述多个传感器的其它传感器的传感器垫之间，所述方法包含：使至少所述传感器垫和所述隔离结构暴露于包括有机硅化合物、有机酸和有机溶剂的处理溶液；以及从所述传感器垫冲洗所述处理溶液。
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