[发明专利]测量设备和方法有效

专利信息
申请号: 201680026211.X 申请日: 2016-03-10
公开(公告)号: CN107624170B 公开(公告)日: 2020-10-13
发明(设计)人: W·J·C·科伯特 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01R1/07;H01S3/09
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华;吕世磊
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种用于测量行进通过腔室(310)的电子束团或其他带电粒子群的至少一个属性的测量设备,包括:围绕腔室布置的多个电极(302‑308);多个光学传感器(322‑328),其中多个电极被配置成向光学传感器提供信号以由此调制光学传感器的至少一个光学属性。设备进一步包括:至少一个激光源(330),用于将包括一系列激光脉冲的激光束提供给多个光学传感器以获得表示光学传感器的所述至少一个光学属性的测量;和处理资源(320),被配置成至少对来自光学传感器中的第一光学传感器的第一测量信号和来自光学传感器中的第二光学传感器的第二测量信号进行处理,以由此确定电子束团或其他带电粒子群的至少一个属性,其中至少一个属性包括电荷和/或横向位置。
搜索关键词: 测量 设备 方法
【主权项】:
一种用于测量行进通过腔室的电子束团或其他带电粒子群的至少一个属性的测量设备,包括:围绕所述腔室布置的多个电极;多个光学传感器,其中所述多个电极被配置成向所述光学传感器提供信号以由此调制所述光学传感器的至少一个光学属性;至少一个激光源,用于将包括一系列激光脉冲的激光束提供给所述多个光学传感器以获得表示所述光学传感器的所述至少一个光学属性的测量;以及处理资源,被配置成至少对来自所述光学传感器中的第一光学传感器的第一测量信号和来自所述光学传感器中的第二光学传感器的第二测量信号进行处理,以由此确定所述电子束团或其他带电粒子群的至少一个属性,其中所述至少一个属性包括:电荷和/或横向位置。
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