[发明专利]化学机械研磨浆料组合物的用途及用于研磨有机膜的方法有效

专利信息
申请号: 201680027986.9 申请日: 2016-05-09
公开(公告)号: CN107636110B 公开(公告)日: 2020-08-11
发明(设计)人: 崔正敏;金泰完;都均奉;姜东宪;金东珍;兪龙植;崔渶楠 申请(专利权)人: 三星SDI株式会社
主分类号: C09K3/14 分类号: C09K3/14;H01L21/3105
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 李艳;臧建明
地址: 韩国京畿道龙仁*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明揭示用于研磨碳含量为约50原子%至约99原子%的有机膜的化学机械研磨(CMP)浆料组合物的用途及用于研磨有机膜的方法。CMP浆料组合物包含:极性溶剂及非极性溶剂中的至少一者;金属氧化物磨蚀剂;氧化剂;以及分子量为3500克/摩尔或小于3500克/摩尔的聚丙烯酸。CMP浆料组合物在研磨具有高碳含量、高膜密度以及高硬度的有机膜时提供优良效应,在研磨有机膜时具有比在研磨无机膜时更佳的研磨速率,在研磨有机膜之后在经研磨表面上提供良好平坦性,以及通过容易自研磨停止膜移除残余有机膜材料而使得研磨更均一。
搜索关键词: 化学 机械 研磨 浆料 组合 用途 用于 有机 方法
【主权项】:
一种用于研磨碳含量为约50原子%至约99原子%的有机膜的CMP浆料组合物,所述CMP浆料组合物包括:极性溶剂及非极性溶剂中的至少一者;金属氧化物磨蚀剂;氧化剂;以及分子量为3500克/摩尔或小于3500克/摩尔的聚丙烯酸。
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