[发明专利]五氯二硅烷

摘要

本发明公开了一种用于沉积的硅前体化合物，所述硅前体化合物包含五氯二硅烷；一种用于成膜的组合物，所述组合物包含硅前体化合物和以下中的至少一种惰性气体、分子氢、碳前体、氮前体、和氧前体；一种在基材上形成含硅膜的方法，所述方法利用所述硅前体化合物，并且所述含硅膜由此形成。

主权项

一种在基材上形成含硅膜的方法，所述方法包括使由五氯二硅烷组成的硅前体的蒸气在存在所述基材的情况下经受沉积条件，从而在所述基材上形成含硅膜，其中所述含硅膜是硅氮膜或硅氧膜，并且所述方法利用原子层沉积。