[发明专利]具有波前光学操纵器的投射镜头、投射曝光方法和投射曝光设备

摘要

一种投射镜头(PO)，用于通过工作波长λ小于260nm的电磁辐射，将布置在该投射镜头的物平面(OS)中的区域中的掩模的图案成像至该投射镜头的像平面(IS)内，该投射镜头包含具有光学表面的多个光学元件，其布置在该物平面(OS)与该像平面(IS)之间的投射光束路径中，使得布置在该物平面中的图案可通过该光学元件成像在该像平面中。更进一步，提供波前操纵系统(WFM)，用于可控地影响对从该物平面行进至该像平面的投射辐射的波前。该波前操纵系统具有操纵器(MAN)，其具有布置在投射光束路径中的操纵器元件(ME)，以及可逆地改变操纵器元件对投射光束路径的辐射的光学效应的致动装置(DR)。该操纵器元件的操纵器表面布置在距离投射镜头在此场平面光学附近的最近场平面有限距离(D)处，使得针对从场平面的不同场点发出的光束，可通过致动装置调整操纵器元件的局部不同光学效应。更进一步，提供灵敏度适配系统，用于使操纵器的灵敏度适配于成像特性的改变，其中通过相对于物平面移动掩模和/或通过使掩模变形，可造成这些改变。

主权项

一种投射镜头(PO)，通过具有的工作波长λ小于260nm的电磁辐射，将布置在该投射镜头的物平面(OS)的区域中的掩模的图案成像至该投射镜头的像平面(IS)中，该投射镜头包含：多个光学元件，其具有布置在该物平面(OS)与该像平面(IS)之间的投射光束路径中的光学表面，使得布置在该物平面中的图案通过所述光学元件可成像在该像平面中，以及波前操纵系统(WFM)，可控地影响从该物平面行进至该像平面的投射辐射的波前，其中该波前操纵系统具有操纵器(MAN)，该操纵器具有布置在该投射光束路径中的操纵器元件(ME)，以及致动装置(DR)，用于可逆地改变该操纵器元件在该投射光束路径的辐射上的光学效应；以及该操纵器元件的操纵器表面布置在距离该投射镜头在此场平面的光学附近的最近场平面的有限距离(D)处，使得针对从该场平面的不同场点发出的光束，通过该致动装置可调整该操纵器元件的局部不同光学效应，其特征在于，灵敏度适配系统，用于通过相对于该物平面位移该掩模和/或通过将该掩模变形来使该操纵器的灵敏度适配于成像特性的变化。