[发明专利]一种微光刻投射曝光设备的光学系统有效
| 申请号： | 201680029150.2 | 申请日： | 2016-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN107810445B | 公开（公告）日： | 2021-07-20 |
| 发明（设计）人： | M.帕特拉 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军;王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种微光刻投射曝光设备的光学系统，其中所述投射曝光设备具有照明单元和投射物镜，以及其中该光在投射曝光设备的操作期间，存在于使用光管(205，305)中的光从照明单元的入口经由投射物镜的物平面行进至投射物镜的像平面，该光学系统具有至少一个薄层组合件(210，310，410，420，430，440，450，510，520，610)，该薄层组合件具有至少一个反射薄层(211，212，311，312，511，512，611，612)，并且具有至少一个射束收集器(250)，其中薄层组合件(210，310，410，420，430，440，450，510，520，610)布置为使得在投射曝光设备的操作期间，将至少周期地照在薄层组合件上且不属于使用光管(205，305)的光朝向射束收集器(250)反射。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 微光 投射 曝光 设备 光学系统 | ||
【主权项】：
一种微光刻投射曝光设备的光学系统，其中所述投射曝光设备具有照明装置和投射镜头，其中位于使用光管(205，305)中的光，在所述投射曝光设备的操作期间，从所述照明装置的入口经由所述投射镜头的物平面传输至所述投射镜头的像平面，所述光学系统具有：·至少一个薄层布置(210，310，410，420，430，440，450，510，520，610)，其具有至少一个反射元件(211，212，311，312，511，512，611，612)，以及·至少一个射束收集器(250)；·其中所述薄层布置(210，310，410，420，430，440，450，510，520，610)布置成朝向所述至少一个射束收集器(250)反射光，所述光在所述投射曝光设备的操作期间至少临时地入射至所述薄层布置上且不属于所述使用光管(205，305)。
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