[发明专利]等离子体原子层生长装置有效

专利信息
申请号: 201680029977.3 申请日: 2016-04-19
公开(公告)号: CN107615459B 公开(公告)日: 2020-06-05
发明(设计)人: 松本龙弥;鹫尾圭亮 申请(专利权)人: 株式会社日本制钢所
主分类号: H01L21/31 分类号: H01L21/31;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/50;H01L21/3065
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 殷明;俞丹
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种等离子体原子层生长装置,具备:能够从成膜容器内侧安装到气体导入开口部并包围气体导入开口部的开口的筒状绝缘性喷射器防粘构件;能够从成膜容器内侧安装到排气开口部并包围排气开口部的开口的筒状绝缘性排气防粘构件;能够安装到成膜容器的内壁侧的绝缘性成膜室防粘构件,喷射器防粘构件在与平板电极及相对电极侧之间具有间隙,以平板电极端为基准,前端位于内侧,排气防粘构件在与平板电极及相对电极侧之间具有间隙,以平板电极端为基准,前端位于内侧,成膜室防粘构件在喷射器防粘构件及排气防粘构件的两侧方配置为横跨喷射器防粘构件和排气防粘构件,在与平板电极及相对电极侧之间具有间隙,并具备:从上述间隙向成膜容器的内侧吹扫惰性气体的上部惰性气体供给口;从上述间隙向成膜容器的内侧吹扫惰性气体的下部惰性气体供给口;与上部惰性气体供给口连接的上部惰性气体供给部;与下部惰性气体供给口连接的下部惰性气体供给部。
搜索关键词: 等离子体 原子 生长 装置
【主权项】:
一种等离子体原子层生长装置,其具备:成膜容器;与保持在所述成膜容器内的基板相对设置的平板电极;在所述成膜容器内部保持基板的相对电极;设于所述成膜容器的一侧壁部的气体导入开口部;以及设于与所述一侧壁部相对的所述成膜容器的另一侧壁部的排气开口部,所述等离子体原子层生长装置在所述基板上形成薄膜,该等离子体原子层生长装置的特征在于,具备:能够从所述成膜容器的内侧安装到所述气体导入开口部并呈筒状地配置为包围所述气体导入开口部的开口的绝缘性喷射器防粘构件;能够从所述成膜容器的内侧安装到所述排气开口部并呈筒状地配置为包围所述排气开口部的开口的绝缘性排气防粘构件;以及能够安装到所述成膜容器的内壁侧的绝缘性成膜室防粘构件,在所述喷射器防粘构件与所述平板电极及所述相对电极侧之间具有间隙,且以所述气体导入开口部侧的所述平板电极端为基准,所述喷射器防粘构件的前端位于内侧,在所述排气防粘构件与所述平板电极及所述相对电极侧之间具有间隙,且以所述排气开口部侧的所述平板电极端为基准,所述排气防粘构件的前端位于内侧,所述成膜室防粘构件至少位于所述喷射器防粘构件及所述排气防粘构件的两侧方,在所述成膜室防粘构件与所述平板电极及所述相对电极侧之间具有间隙,而且该等离子体原子层生长装置具备:从所述平板电极与所述成膜室防粘构件之间的所述间隙向所述成膜容器的内侧吹扫惰性气体的上部惰性气体供给口;从所述相对电极与所述喷射器防粘构件、所述排气防粘构件及所述成膜室防粘构件之间的所述间隙向所述成膜容器的内侧吹扫惰性气体的下部惰性气体供给口;与所述上部惰性气体供给口连接的上部惰性气体供给部;与所述下部惰性气体供给口连接的下部惰性气体供给部。
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