[发明专利]放射性标记化合物的制造装置及制造方法有效
| 申请号： | 201680030681.3 | 申请日： | 2016-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN107614482B | 公开（公告）日： | 2020-10-20 |
| 发明（设计）人： | 中村大作;外山正人;赤间佳;江原秀明 | 申请（专利权）人： | 日本医事物理股份有限公司 |
| 主分类号： | C07C227/18 | 分类号： | C07C227/18;A61K51/00;B01J20/22;C07B59/00;C07C229/48 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军;李国卿 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 放射性标记化合物的制造装置(100)是通过向非放射性的标记前体化合物中导入放射性同位素从而制造放射性标记化合物的制造装置。制造装置(100)具有：固相萃取部(10)，所述固相萃取部(10)实施特定处理，所述特定处理是中间体化合物的反应、中间体化合物的纯化、或放射性标记化合物的纯化；和冷却部(20)，在实施特定处理时，所述冷却部(20)对固相萃取部(10)进行冷却。 | ||
| 搜索关键词： | 放射性 标记 化合物 制造 装置 方法 | ||
【主权项】：
放射性标记化合物的制造装置，其通过向非放射性的标记前体化合物中导入放射性同位素从而制造放射性标记化合物，所述放射性标记化合物的制造装置具有：固相萃取部，所述固相萃取部实施特定处理，所述特定处理是中间体化合物的反应、中间体化合物的纯化、或所述放射性标记化合物的纯化，和冷却部，在实施所述特定处理时，所述冷却部对所述固相萃取部进行冷却。
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