[发明专利]原子层生长装置有效

专利信息
申请号: 201680031264.0 申请日: 2016-04-19
公开(公告)号: CN107615460B 公开(公告)日: 2020-07-14
发明(设计)人: 松本龙弥;鹫尾圭亮 申请(专利权)人: 株式会社日本制钢所
主分类号: H01L21/31 分类号: H01L21/31;C23C16/04;C23C16/44;C23C16/455
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 殷明;俞丹
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明是一种在基板上形成薄膜的原子层生长装置,具备:成膜容器;在成膜容器内设置的平台;在平台上保持基板的基座;配置在基板上且尺寸包围基板的掩模;能够支撑掩模上下可动的掩模销;以及在上下方向上贯通平台及基座并使掩模销能够以上下可动的方式插通的掩模销孔,基座具备:具有基板的保持面的基座主体;位于基座主体的周围且高度比保持面低的基座周缘部,掩模销孔在基座周缘部开口,在基座周缘部的掩模包围的区域内,在保持面的周围设置向上方侧排出气体的惰性气体供给口,惰性气体供给口与供给惰性气体的惰性气体供给路径连接。
搜索关键词: 原子 生长 装置
【主权项】:
一种原子层生长装置,是在基板上形成薄膜的原子层生长装置,其特征在于,具备:成膜容器;设置在所述成膜容器内的平台;在所述平台上保持所述基板的基座;配置在所述基板上且尺寸包围所述基板的掩模;能够支撑所述掩模上下可动的掩模销;以及在上下方向上贯通所述平台及所述基座并使所述掩模销能够以上下可动的方式插通的掩模销孔,所述基座具备:具有所述基板的保持面的基座主体;位于所述基座主体的周围且高度比所述保持面低的基座周缘部,所述掩模销孔在所述基座周缘部开口,在所述基座周缘部的所述掩模包围的区域内,在所述保持面的周围设置向上方侧排出气体的惰性气体供给口,所述惰性气体供给口与供给惰性气体的惰性气体供给路径连接。
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