[发明专利]确定多重图案化步骤叠加误差

摘要

本发明提供用于确定在多重图案化步骤工艺中印刷于晶片上的设计的不同图案化特征之间的叠加误差的方法及系统。对于多重图案化步骤设计，使用第一图案化步骤的所述设计作为参考且使剩余图案化步骤中的每一者的设计合成偏移，直到所述合成偏移的设计基于全局图像到设计对准，而具有与整个图像的最佳全局对准。每一图案化步骤的每一设计相对于所述第一图案化步骤的所述设计的最终合成偏移提供使用多重图案化技术印刷于所述晶片上的任何两个特征之间的相对叠加误差的测量。

主权项

1.一种经配置以确定在多重图案化步骤工艺中印刷于晶片上的设计的不同图案化特征之间的叠加误差的系统，所述系统包括：/n输出获取子系统，其包括至少一能量源及检测器，其中所述能量源经配置以产生引导到晶片的能量，其中所述检测器经配置以从所述晶片检测能量且响应于所述检测到的能量产生输出，其中第一及第二图案化特征分别使用第一及第二图案化步骤印刷于所述晶片的层级上，且其中所述晶片的所述层级的设计包括所述第一图案化特征的设计和所述第二图案化特征的设计；及/n一或多个计算机子系统，其经配置以用于：/n通过使所述第一图案化特征的所述设计对准到从所述输出产生的所述晶片的图像中的所述第一图案化特征而使所述晶片的所述层级的所述设计对准到所述图像，借此使所述层级的全部所述设计对准到所述第一图案化特征；/n通过仅使所述第二图案化特征的所述设计仅对准到所述图像中的所述第二图案化特征，而仅将所述第二图案化特征的所述设计从通过所述对准全部所述设计而确定的所述第二图案化特征的所述设计的位置偏移到所述第二图案化特征的所述设计的偏移位置；及/n确定所述第二图案化特征的所述设计的所述位置与所述第二图案化特征的所述设计的所述偏移位置之间的偏差，其中所述偏差等于所述晶片上的所述第一图案化特征与所述晶片上的所述第二图案化特征之间的相对叠加误差。/n