[发明专利]使用光线跟踪渲染以生成可见性流有效
| 申请号： | 201680032998.0 | 申请日： | 2016-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN107750373B | 公开（公告）日： | 2019-04-05 |
| 发明（设计）人： | 穆拉特·巴尔契;克里斯托弗·保罗·弗拉斯卡蒂;尤拉伊·奥伯特;希滕德拉·莫汉·甘加尼;阿温阿什·赛塔拉迈亚 | 申请（专利权）人： | 高通股份有限公司 |
| 主分类号： | G06T15/00 | 分类号： | G06T15/00;G06T15/06;G06T15/40 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 杨林勳 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于渲染的方法和设备包含将渲染目标分割成多个组格(341)。接下来，使用光线跟踪执行可见性遍次以生成可见性流，使得所述可见性流指示针对所述多个组格中的每个组格，哪些基元在所述组格中可见(342)。接着，针对所述多个组格中的至少一个组格，渲染所述组格中的在所述可见性流中指示为在所述组格中可见的每个基元(343)。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 光线 跟踪 渲染 生成 可见 | ||
【主权项】：
1.一种用于图形处理的方法，其包括：将渲染目标分割成多个组格，其中所述渲染目标包含多个基元以及多个像素；使用光线跟踪执行可见性遍次以生成可见性流，其中使用光线跟踪生成所述可见性流包括：使光线投射穿过所述渲染目标的每个像素；执行光线相交测试以确定针对所述多个组格中的每个组格，哪些基元在所述组格中可见；以及基于所述光线相交测试，生成所述可见性流，使得所述可见性流指示针对所述多个组格中的每个组格，哪些基元在所述组格中可见；并且针对所述多个组格中的每个组格，使用光栅化来渲染相应组格中的在所述可见性流中指示为在所述组格中可见的每个基元。
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