[发明专利]光刻设备及用于加载衬底的方法

摘要

一种光刻设备包括支撑台和气体抽取系统。所述气体抽取系统被配置成当所述衬底正被降低到所述支撑台上时，从在所述支撑台的基底表面与衬底之间的间隙通过至少一个气体抽取开口抽取气体。所述光刻设备被配置使得当在所述衬底与所述支撑平面之间的距离大于阈值距离时从所述间隙以第一加载流率抽取气体，和当在所述衬底与所述支撑平面之间的距离小于所述阈值距离时从所述间隙以第二流率抽取气体，其中所述第二加载流率小于所述第一加载流率。

主权项

一种光刻设备，包括：支撑台，所述支撑台被配置用以支撑衬底；和气体抽取系统；其中所述支撑台包括：基底表面；在所述基底表面上方突出的多个突节，所述多个突节中的每个具有各自的突节远端，所述突节远端被布置在支撑平面中以便支撑所述衬底；和连接至所述气体抽取系统的至少一个气体抽取开口，以及其中所述气体抽取系统被配置用以当所述衬底正被降低到所述支撑台上时，从在基底表面和衬底之间的间隙通过每个气体抽取开口抽取气体；其中所述光刻设备被配置使得：当在所述衬底和所述支撑平面之间的距离大于阈值距离时，从所述间隙以第一加载流率抽取气体，以及当在所述衬底和所述支撑平面之间的距离小于所述阈值距离时，从所述间隙以第二加载流率抽取气体，其中所述第二加载流率小于所述第一加载流率。