[发明专利]抗蚀剂剥离液有效
| 申请号： | 201680034620.4 | 申请日： | 2016-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN107995960B | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 渊上真一郎;鬼头佑典 | 申请（专利权）人： | 松下知识产权经营株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 半导体装置等的制造工艺中，一直以来在高温度下进行固化，避免了抗蚀剂的固化不良。因此，需要比以往剥离力强的剥离液。一种抗蚀剂剥离液，其特征在于，包含：仲胺；作为极性溶剂包含1,3‑二甲基‑2‑咪唑啉酮(DMI)和水；作为添加剂的肼，前述水为10.0质量％以上且低于31.0质量％，能够剥离经高温烘焙的抗蚀剂，也不会发生膜表面、截面的腐蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 剥离 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀剂剥离液，其特征在于，其为剥离抗蚀剂的抗蚀剂剥离液，该抗蚀剂剥离液如下构成：0.5质量％以上且9.0质量％以下的仲胺、0.03质量％以上且0.4质量％以下的肼、10.0质量％以上且低于31.0质量％的水、及余量的1,3‑二甲基‑2‑咪唑啉酮(DMI)。
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