[发明专利]布线基板的制造方法、布线基板以及布线基板制造装置有效
申请号: | 201680035483.6 | 申请日: | 2016-04-01 |
公开(公告)号: | CN107683635B | 公开(公告)日: | 2020-06-05 |
发明(设计)人: | 羽生智行;远藤真一;生井昌仁;飨庭彰;铃木浩子;堀部大辉;丸山俊 | 申请(专利权)人: | 优志旺电机株式会社 |
主分类号: | H05K3/42 | 分类号: | H05K3/42;H05K1/11;H05K3/14;H05K3/16;H05K3/18 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 徐殿军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 在确保晶种层与绝缘层的紧贴性的同时实现布线图案的细微化。作为布线基板的制造工序,包括:对在导电层上层叠绝缘层而成的布线基板材料,形成贯通绝缘层的贯通孔的第一工序;在第一工序后,通过对布线基板材料照射波长220nm以下的紫外线,从而进行该布线基板材料的除污处理的第二工序;在第二工序后,在贯通孔内以及绝缘层上,使材料粒子碰撞而附着从而形成晶种层的第三工序;以及在晶种层上,通过电解镀形成由导电材料构成的电镀层的第四工序。 | ||
搜索关键词: | 布线 制造 方法 以及 装置 | ||
【主权项】:
一种布线基板的制造方法,其特征在于,包括:第一工序,对于在导电层上层叠了绝缘层而成的布线基板材料,形成贯通所述绝缘层的贯通孔;第二工序,对于形成了所述贯通孔的所述布线基板材料,照射波长220nm以下的紫外线,从而进行该布线基板材料的除污处理;第三工序,在被实施了所述除污处理的所述贯通孔内以及所述绝缘层上,使材料粒子碰撞而附着,从而形成晶种层;以及第四工序,在所述晶种层上,通过电解镀形成由导电材料构成的电镀层。
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