[发明专利]图案描绘装置及图案描绘方法

摘要

本发明的图案描绘装置及图案描绘方法，稳定地维持描绘超详细图案所需的扫描线的配置精度或光学性能。图案描绘装置(EX)，使基板(P)上所聚光的光点(SP)沿着描绘线(SL)进行主扫描，并且使基板(P)进行副扫描，藉此于基板(P)上描绘既定图案；该图案描绘装置(EX)使由多面镜(PM)反射的第1光束(LBa)聚光并作为光点(SPa)而投射至第1描绘线(SLa)上，并且使由多面镜(PM)反射的第2光束(LBb)聚光并作为光点(SPb)而投射至第2描绘线(SLb)上。上述两条描绘线(SLa、SLb)于基板(P)上位于副扫描方向上的相同位置，且于主扫描方向上错开。

主权项

一种图案描绘装置，使来自光源装置的光束呈点状地聚光于被照射体上，使聚光后的光点沿着既定的扫描线进行主扫描，并且对上述被照射体进行副扫描，藉此在上述被照射体上描绘既定图案，其具备：旋转多面镜，为了上述主扫描而绕旋转轴旋转；第1导光光学系统，从第1方向朝上述旋转多面镜投射来自上述光源装置的第1光束；第2导光光学系统，从与上述第1方向不同的第2方向朝上述旋转多面镜投射来自上述光源装置的第2光束；第1投射光学系统，使由上述旋转多面镜反射的上述第1光束聚光并作为第1光点而投射至第1扫描线上；以及第2投射光学系统，使由上述旋转多面镜反射的上述第2光束聚光并作为第2光点而投射至第2扫描线上；以使上述第1扫描线与上述第2扫描线于上述被照射体上位于上述副扫描方向上的相同位置且在上述主扫描方向上错开的方式，配置上述第1投射光学系统与上述第2投射光学系统。