[发明专利]具有外围晶体管的外延半导体基座的三维存储器器件有效
申请号: | 201680036404.3 | 申请日: | 2016-06-09 |
公开(公告)号: | CN107771356B | 公开(公告)日: | 2021-09-28 |
发明(设计)人: | Z.卢;D.毛;K.宫田;J.有吉;J.阿尔斯梅尔;G.马塔米斯;W.史;J.许;X.胡;A.林;J.余 | 申请(专利权)人: | 桑迪士克科技有限责任公司 |
主分类号: | H01L27/11565 | 分类号: | H01L27/11565;H01L27/11573;H01L27/11575;H01L27/11582;H01L21/02 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邱军 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供了一种制造存储器器件的方法,所述方法包括在半导体基板之上形成绝缘体层和间隔体材料层的第一交替堆叠体,蚀刻所述第一交替堆叠体以暴露单晶半导体材料,在所述单晶半导体材料上形成第一外延半导体基座,使得所述第一外延半导体基座与所述单晶半导体材料外延对齐,通过所述第一交替堆叠体形成存储器堆叠结构的阵列,以及在所述第一外延半导体基座之上形成至少一个半导体器件。 | ||
搜索关键词: | 具有 外围 晶体管 外延 半导体 基座 三维 存储器 器件 | ||
【主权项】:
一种制造存储器器件的方法,包括:在基板的单晶半导体表面之上形成绝缘体层和间隔体材料层的交替堆叠体;通过图案化所述交替堆叠体形成阶梯式表面,其中所述单晶半导体表面在所述交替堆叠体的所有层被移除的区域中被暴露;在形成所述阶梯式表面之后,分别在所述半导体基板的半导体表面之上和所述阶梯式表面之上形成外延半导体基座和电介质材料部分,其中所述外延半导体基座与所述基板的单晶半导体表面外延对齐;通过所述交替堆叠体的剩余部分形成存储器堆叠结构的阵列;以及在所述外延半导体基座上形成至少一个半导体器件。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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