[发明专利]R-T-B系烧结磁体及其制造方法有效
申请号: | 201680036852.3 | 申请日: | 2016-06-17 |
公开(公告)号: | CN107710351B | 公开(公告)日: | 2019-10-25 |
发明(设计)人: | 佐藤铁兵;国吉太;石井伦太郎;西内武司;野泽宣介 | 申请(专利权)人: | 日立金属株式会社 |
主分类号: | H01F1/057 | 分类号: | H01F1/057;B22F1/00;B22F3/00;C22C33/02;C22C38/00;H01F1/08;H01F41/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 任岩 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种R‑T‑B系烧结磁体,其特征在于,其含有R:27.5~34.0质量%、RH:2~10质量%、B:0.89~0.95质量%、Ti:0.1~0.2质量%、Ga:0.3~0.7质量%、Cu:0.07~0.50质量%、Al:0.05~0.50质量%、M(M为Nb和/或Zr):0~0.3质量%、余量T和不可避免的杂质,满足下述式(1)、(2)和(3)。[T]‑72.3([B]‑0.45[Ti])>0(1),([T]‑72.3([B]‑0.45[Ti]))/55.85<13[Ga]/69.72(2),[Ga]≥[Cu](3)。 | ||
搜索关键词: | 烧结 磁体 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种R‑T‑B系烧结磁体,其特征在于,其含有:R:27.5~34.0质量%、RH:2~10质量%、B:0.89~0.95质量%、Ti:0.1~0.2质量%、Ga:0.3~0.7质量%、Cu:0.07~0.50质量%、Al:0.05~0.50质量%、M:0~0.3质量%、余量T和不可避免的杂质,R为稀土元素中的至少一种,必须包含Nd和重稀土元素RH,所述重稀土元素RH为Dy、Tb、Gd和Ho中的至少一种,M为Nb和/或Zr,T是过渡金属元素且必须包含Fe,所述R‑T‑B系烧结磁体满足下述式(1)、(2)和(3):[T]‑72.3([B]‑0.45[Ti])>0 (1)([T]‑72.3([B]‑0.45[Ti]))/55.85<13[Ga]/69.72 (2)[Ga]≥[Cu] (3)[T]是用质量%表示的T的含量,[B]是用质量%表示的B的含量,[Ti]是用质量%表示的Ti的含量,[Ga]是用质量%表示的Ga的含量,[Cu]是用质量%表示的Cu的含量。
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