[发明专利]化学蒸镀装置及化学蒸镀方法在审
申请号: | 201680037152.6 | 申请日: | 2016-07-08 |
公开(公告)号: | CN107709607A | 公开(公告)日: | 2018-02-16 |
发明(设计)人: | 龙冈翔;山口健志 | 申请(专利权)人: | 三菱综合材料株式会社 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;B23B27/14 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司11018 | 代理人: | 齐葵,周艳玲 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的化学蒸镀装置具有容纳被成膜物的反应容器、设置在反应容器内的气体供给管及在反应容器内使气体供给管绕旋转轴旋转的旋转驱动装置,气体供给管的内部被划分为沿旋转轴延伸的第1气体流通部和第2气体流通部,在气体供给管的管壁设置有由沿圆周方向相邻配置的至少三个以上的气体喷出口组成的气体喷出口组,气体喷出口组包含至少一个以上的第1气体喷出口和至少一个以上的第2气体喷出口,所述第1气体喷出口使流通到第1气体流通部的第1气体喷出到反应容器内,所述第2气体喷出口使流通到第2气体流通部的第2气体喷出到反应容器内。 | ||
搜索关键词: | 化学 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种化学蒸镀装置,具有容纳被成膜物的反应容器、设置于所述反应容器内的气体供给管及在所述反应容器内使气体供给管绕旋转轴旋转的旋转驱动装置,所述气体供给管的内部被划分为沿所述旋转轴延伸的第1气体流通部和第2气体流通部,在所述气体供给管的管壁设置有由沿圆周方向相邻配置的至少三个以上的气体喷出口组成的气体喷出口组,所述气体喷出口组包含至少一个以上的第1气体喷出口和至少一个以上的第2气体喷出口,所述第1气体喷出口使流通到所述第1气体流通部的第1气体喷出到所述反应容器内,所述第2气体喷出口使流通到所述第2气体流通部的第2气体喷出到所述反应容器内。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的