[发明专利]具有降低的积聚的X射线设备有效

专利信息
申请号: 201680038827.9 申请日: 2016-06-23
公开(公告)号: CN107809953B 公开(公告)日: 2021-04-27
发明(设计)人: C·赫尔曼 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00;A61B6/03;A61B6/06;G01T1/17;G01T1/24;H01L27/146;H01L31/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 李光颖;王英
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种用于对对象(41)进行成像的X射线设备(1)。所述X射线设备的辐射探测器(3)包括用于探测辐射的探测器元件(21),每个探测器元件(21)包括可调整敏感体积,其中,进入所述敏感体积的X射线光子产生用于生成图像数据的电信号。此外,所述设备包括控制单元(9),所述控制单元被配置为根据被成像对象(41)的几何结构来控制所述探测器元件(21)中的至少一个的敏感体积,以降低所述探测器元件中的积聚效应。此外,本发明涉及一种用于操作所述设备(1)的方法以及用于实施所述方法的计算机程序。
搜索关键词: 具有 降低 积聚 射线 设备
【主权项】:
一种用于采集要被成像的对象(41)的图像数据的X射线设备(1),所述设备(1)包括X射线源(2)和辐射探测器(3),所述辐射探测器(3)包括用于探测辐射的探测器元件(21),每个探测器元件(21)包括能够调整的敏感体积,其中,进入所述敏感体积的X射线光子产生用于生成所述图像数据的电信号,其中,所述设备(1)还包括控制单元(9),所述控制单元被配置为根据要被成像的所述对象(41)的几何结构来控制所述探测器元件(21)中的至少一个的所述敏感体积。
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