[发明专利]光刻设备、投影系统、最终透镜元件、液体控制构件及器件制造方法

摘要

公开了光刻设备、用于与浸没式光刻设备一起使用的投影系统、用于投影系统的最终透镜元件、液体控制构件以及器件制造方法。在一个布置中，光刻设备包括投影系统PS，被配置为将经图案化的辐射束(B)通过投影系统投影到衬底(W)的目标部分上。液体限制结构(12)将浸没液体限制在投影系统和衬底之间的空间(10)中。投影系统包括出射表面(104)，通过出射表面来投影经图案化的辐射束；以及面向液体限制结构的另一表面(110)。另一表面相对于浸没液体具有第一静态后退接触角。出射表面相对于浸没液体具有第二静态后退接触角。第一静态后退接触角大于第二静态后退接触角；并且小于65度。

主权项

一种光刻设备，包括：投影系统，被配置为将图案化的辐射束通过所述投影系统投影到衬底的目标部分上；以及液体限制结构，被配置为将浸没液体限制在所述投影系统与所述衬底之间的空间中，所述投影系统包括：出射表面，通过所述出射表面来投影所述图案化的辐射束；以及面向所述液体限制结构的另一表面，其中：所述另一表面相对于所述浸没液体具有第一静态后退接触角；所述出射表面相对于所述浸没液体具有第二静态后退接触角；并且所述第一静态后退接触角：大于所述第二静态后退接触角；并且小于65度。