[发明专利]六方晶氮化硼粉末、其制造方法、树脂组合物及树脂片有效
| 申请号： | 201680043477.5 | 申请日： | 2016-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN107848801B | 公开（公告）日： | 2021-01-12 |
| 发明（设计）人： | 大冢雄树;深泽贤 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | C01B21/064 | 分类号： | C01B21/064;C08K3/38;C08L101/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 王磊;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明为一种hBN粉末、该hBN粉末的制造方法、包含该hBN粉末的树脂组合物及树脂片，所述hBN粉末包含六方晶氮化硼(hBN)一次粒子的聚集体，所述六方晶氮化硼粉末的一次粒径小于10μm，一次粒子的平均长径(L |
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| 搜索关键词： | 六方晶 氮化 粉末 制造 方法 树脂 组合 | ||
【主权项】：
一种六方晶氮化硼粉末，其包含六方晶氮化硼一次粒子的聚集体，所述六方晶氮化硼粉末的一次粒径小于10μm，一次粒子的平均长径L1相对于平均厚度d1之比L1/d1为5.0以上且20以下，BET比表面积小于10m2/g，在被分级为45μm以上且106μm以下的粒径的所述六方晶氮化硼粉末的粒径分布曲线中，在粒径45μm以上且150μm以下的范围内具有1个最大峰，使所述六方晶氮化硼粉末分散到水中，对得到的分散液进行1分钟超声波处理后由下述式(1)计算出的最大峰的峰减少率为10％以上且小于40％，峰减少率＝〔(处理前的最大峰高度a)‑(处理后的最大峰高度b)〕/(处理前的最大峰高度a) (1)。
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