[发明专利]用于气体消除的方法及装置有效
| 申请号： | 201680043524.6 | 申请日： | 2016-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN107851547B | 公开（公告）日： | 2020-11-27 |
| 发明（设计）人： | 王荣平;曾继兵;大卫·姆曲英·胡;迈克尔·S·考克斯;原铮;杰姆斯·L·厄鲁 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C16/44 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文中所公开的实施方式包括用于消除半导体工艺中所产生的化合物的等离子体源、消除系统和真空处理系统。在一个实施方式中，等离子体源包括介电管和围绕所述管的线圈天线。线圈天线包括多个匝，且至少一个匝被短接。选择性地短接线圈天线的一个或多个匝帮助减少了线圈天线的电感，而允许向线圈天线供应覆盖更多处理容积的更高的功率。供应至线圈天线的更高功率和更大的处理容积带来了改良的DRE。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 气体 消除 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种等离子体源，包括：介电管；和线圈天线，所述线圈天线围绕所述介电管，其中所述线圈天线包括多个匝，且其中所述多个匝的至少一个匝被短接。
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