[发明专利]用于与表面处理设备连接的基站、由表面处理设备和基站组成的系统和运行基站的方法有效
| 申请号： | 201680045115.X | 申请日： | 2016-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN107851354B | 公开（公告）日： | 2019-11-26 |
| 发明（设计）人： | F.迈耶 | 申请（专利权）人： | 德国福维克控股公司 |
| 主分类号： | G08B17/103 | 分类号： | G08B17/103;G01S17/48 |
| 代理公司： | 11105 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 侯宇<国际申请>=PCT/EP2016/ |
| 地址： | 德国伍*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种表面处理设备(1)、尤其清洁机器人，具有至少一个设备光学元件(3)和评估装置(5)。为了提供表面处理设备(1)的其它功能，在此建议，设备光学元件(3)为了与外设元件共同作用而设计为，使得从设备光学元件(3)发射的光借助外设元件被至少部分地反射到设备光学元件(3)，其中，评估装置(5)设计为，在设备光学元件(3)与外设元件共同作用时，为了探测在设备光学元件(3)和外设元件之间烟雾(7)的存在，对于设备光学元件(3)接收到的测量信号针对信号幅度的时间变化进行评估，并且在越过定义的极限值时触发警报信号。本发明进一步涉及用于与表面处理设备(1)连接的基站(2)、由表面处理设备(1)和基站(2)组成的系统、用于运行表面处理设备(1)和/或基站(2)的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 处理 设备 基站 | ||
【主权项】：
1.一种基站(2)，用于与表面处理设备(1)连接以便进行维护操作，其中，所述基站(2)具有至少一个基站光学元件(4)和评估装置(5)，其特征在于，所述基站光学元件(4)为了与外设元件共同作用而设计为，使得从所述基站光学元件(4)发射的光借助所述外设元件被至少部分地反射到基站光学元件(4)，其中，所述评估装置(5)设计为，在所述基站光学元件(4)和所述外设元件共同作用时，为了探测在所述基站光学元件(4)和外设元件之间烟雾(7)的存在，对于所述基站光学元件(4)接收到的测量信号针对信号幅度的时间变化进行评估，并且在越过定义的极限值时触发警报信号。/n
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