[发明专利]具有优化的粘合特性并且包括硅有机层的物品有效
| 申请号： | 201680045648.8 | 申请日： | 2016-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN107923995B | 公开（公告）日： | 2020-01-17 |
| 发明（设计）人： | S·基亚罗托 | 申请（专利权）人： | 依视路国际公司 |
| 主分类号： | G02B1/111 | 分类号： | G02B1/111;C23C14/06;C23C14/22;C03C17/34 |
| 代理公司： | 11247 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 张振军;刘娜 |
| 地址： | 法国沙*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种包括基材的物品，该基材具有至少一个涂覆有干涉涂层的主表面，该干涉涂层包括：A层，所述A层具有小于或等于1.65的折射率并且通过至少一种有机硅化合物A的由离子源辅助的真空沉积获得，以及与所述层A直接接触的以下层：层B，所述层B具有大于1.65的折射率并且通过至少一种金属氧化物和至少一种有机硅化合物B的由离子源辅助的真空沉积获得，所述层B含有至少一种具有大于或等于1.8的折射率的金属氧化物，或层C，所述层C包含氧化硅、具有小于或等于15nm的厚度、并且与层E直接接触，所述层E包含至少一种具有大于或等于1.8的折射率的金属氧化物。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 优化 粘合 特性 并且 包括 有机 物品 | ||
【主权项】：
1.一种包括基材的物品，该基材具有至少一个涂覆有干涉涂层的主表面，该干涉涂层从该基材开始按顺序包括：/n-通过至少一种有机硅化合物A的由离子源辅助的真空沉积获得的层A，所述层A具有低于或等于1.65的折射率，以及与该层A直接接触的以下层，/n-通过至少一种金属氧化物和至少一种有机硅化合物B的由离子源辅助的真空沉积获得的B层，所述层B具有高于1.65的折射率并且含有至少一种具有高于或等于1.8的折射率的金属氧化物，和/na)相对于层A的重量，所述层A含有按重量计大于70％的有机硅化合物A,或/nb)所述层A不由无机前体化合物形成，/n-或包含氧化硅并且具有低于或等于15nm厚度的层C，与层E直接接触，所述层E包含至少一种具有高于或等于1.8的折射率的金属氧化物，且层E不由有机前体化合物形成。/n
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