[发明专利]用于使用混合加工方法来制造荫罩的方法以及由此制造的荫罩有效
申请号: | 201680045693.3 | 申请日: | 2016-08-04 |
公开(公告)号: | CN107851715B | 公开(公告)日: | 2022-10-28 |
发明(设计)人: | 朴钟甲;金宝蓝;许俊圭;金度勋 | 申请(专利权)人: | APS控股股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/00 | 分类号: | H01L51/00;H01L21/033;H01L21/311;H01L21/306;H01L21/268 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 王小衡;任庆威 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于制造金属荫罩的方法,并且涉及一种用于制造具有其上形成的掩膜图案的荫罩的方法,本主题为用于使用混合加工方法来制造荫罩的方法以及由此制造的荫罩,用于制造荫罩的方法包括:用于在基底的上侧上执行湿法蚀刻的湿法蚀刻步骤;以及用于在其中形成湿法蚀刻图案的基底的下侧或者上侧上执行激光加工的激光加工步骤,由此形成对湿法蚀刻的图案的延续的激光加工的图案。因此,湿法蚀刻和激光加工被混合使用,并且因此解决了由于传统激光加工工艺导致的生产力恶化问题,并且示出了能够借助于湿法蚀刻提供高质量荫罩的效果。 | ||
搜索关键词: | 用于 使用 混合 加工 方法 制造 以及 由此 | ||
【主权项】:
一种制造荫罩的方法,其中,混合加工被用于在所述荫罩上形成掩模图案,所述方法包括:通过从基底上方执行湿法刻蚀而形成湿法刻蚀的图案;通过从其上形成有所述湿法刻蚀的图案的基底的上方或从其上形成有所述湿法刻蚀的图案的基底的下方执行激光加工而形成从所述湿法刻蚀的图案延续的激光加工的图案。
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