[发明专利]用于极紫外和软X射线光学器件的涂层在审
| 申请号： | 201680046657.9 | 申请日： | 2016-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN108431903A | 公开（公告）日： | 2018-08-21 |
| 发明（设计）人： | 塞博利亚·贾斯瓦尔 | 申请（专利权）人： | 塞博利亚·贾斯瓦尔 |
| 主分类号： | G21K1/06 | 分类号： | G21K1/06 |
| 代理公司： | 北京智为时代知识产权代理事务所(普通合伙) 11498 | 代理人： | 王加岭;杨静 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 用于0.1nm至250nm的极紫外/软X射线谱/DUV的涂层包括与亚波长“B层”交替的一个或多个亚波长“A层”。A层可以包括第1族、第2族和第18族材料。B层可以包括过渡金属、镧系元素、锕系元素或它们的组合之一。A层和/或B层可以包括纳米结构，其特征的尺寸或形状类似于预期的缺陷。附加的顶层可以包括较高原子序数的A层材料、疏水材料或带电材料。这样的材料可以用于制造用于诸如光刻、晶片图案化、天文和空间应用、生物医学、生物技术应用或其他应用等应用中的例如反射镜、透镜或其他光学器件、面板、光源、光掩模、光刻胶等部件或其他部件。 | ||
| 搜索关键词： | 亚波长 透镜 生物技术应用 高原子序数 带电材料 光学器件 过渡金属 晶片图案 空间应用 纳米结构 生物医学 疏水材料 形状类似 锕系元素 镧系元素 软X射线 反射镜 光刻胶 光掩模 交替的 预期的 第1族 顶层 光刻 光源 应用 天文 制造 | ||
【主权项】：
1.一种具有工作波长λ的光学元件，所述光学元件包括：衬底；和所述衬底上方的第一层；其中所述第一层的厚度小于所述波长λ；其中第一层实质上由碱金属、惰性气体、卤素、非铍碱土金属或它们的组合组成；其中所述第一层在λ处具有比相同厚度的无孔化学计量硅层更低的吸收率；和其中0.1nm≤λ≤250nm。
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