[发明专利]头外定位处理装置以及头外定位处理方法有效
| 申请号： | 201680046814.6 | 申请日： | 2016-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN107925835B | 公开（公告）日： | 2019-10-08 |
| 发明（设计）人： | 村田寿子;小西正也;藤井优美 | 申请（专利权）人： | JVC建伍株式会社 |
| 主分类号： | H04S1/00 | 分类号： | H04S1/00;H04R1/10;H04R3/00;H04R5/027;H04S5/02 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 刘军 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本实施方式涉及的头外定位处理装置包括：头戴耳机(43)；左右的麦克风(2L、2R)；测量部(35)，分别测量左右的头戴耳机传递特性；逆滤波器计算部(32)，分别计算头戴耳机传递特性的逆滤波器；修正部(33)，在频域中修正逆滤波器并计算修正滤波器；以及输入部(31)，接受用户输入。修正部(33)在第一频带中，使用预先设定的修正函数修正逆滤波器。在第二频带中，依据根据用户输入选择的修正模式来修正逆滤波器。 | ||
| 搜索关键词： | 定位 处理 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
1.一种头外定位处理装置，包括：头戴耳机，具有左右的输出单元；左右的麦克风，分别安装在左右的所述输出单元；测量部，通过由左右的所述麦克风分别拾取从左右的所述输出单元输出的声音来分别测量左右的头戴耳机传递特性；逆滤波器计算部，在频域中分别计算左右的所述头戴耳机传递特性的逆滤波器；修正部，在频域中修正所述逆滤波器并计算修正滤波器；卷积运算部，使用空间声学传递特性对再现信号进行卷积处理；滤波器部，对由所述卷积运算部进行卷积处理后的所述再现信号，使用所述修正滤波器进行卷积处理；以及输入部，接受用户输入，该用户输入用于从多个修正模式之中选择最佳的修正模式，其中，所述头戴耳机输出卷积了所述修正滤波器后的所述再现信号，所述修正部在第一频带中，使用预先设定的修正函数修正所述逆滤波器，所述修正部在比所述第一频带高的第二频带中，依据根据所述用户输入选择的修正模式来修正所述逆滤波器，所述修正部在比所述第二频带高的第三频带中，将所述修正滤波器修正为预定值。
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