[发明专利]光刻用材料以及其的制造方法、光刻用组合物、图案形成方法、以及、化合物、树脂、以及它们的纯化方法有效
| 申请号： | 201680049043.6 | 申请日： | 2016-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN107924123B | 公开（公告）日： | 2021-08-06 |
| 发明（设计）人： | 工藤宏人;越后雅敏;樋田匠;佐藤隆 | 申请（专利权）人： | 学校法人关西大学;三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;C07C395/00;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种包含含有碲的化合物或含有碲的树脂的光刻用材料以及其的制造方法、光刻用组合物、图案形成方法、以及、化合物、树脂、以及它们的纯化方法。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 用材 及其 制造 方法 组合 图案 形成 以及 化合物 树脂 它们 纯化 | ||
【主权项】：
一种光刻用材料，其中，包含：含有碲的化合物或含有碲的树脂。
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