[发明专利]气体喷射系统及对衬底施加残留物移除气体的方法有效
| 申请号： | 201680049111.9 | 申请日： | 2016-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN107924805B | 公开（公告）日： | 2019-08-27 |
| 发明（设计）人： | 杰伊·沃利斯;厄尼斯特·艾伦;理查德·赫尔特;凯文·丹尼尔斯;葛兰·吉尔克里斯特 | 申请（专利权）人： | 瓦里安半导体设备公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 马爽;臧建明 |
| 地址： | 美国麻萨诸塞*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种离子束装置的气体喷射系统，所述气体喷射系统包括：提取板；提取孔，形成于提取板中以使离子束能够通过；第一气体分配器，可移除地固定至提取孔的第一侧上的提取板，第一气体分配器中形成有气体孔口；第二气体分配器，可移除地固定至提取孔的与第一侧相对的第二侧上的提取板，第二气体分配器中形成有气体孔口；第一气体导管，在第一气体分配器与安装至提取板的气体歧管之间延伸贯穿提取板；及第二气体导管，在第二气体分配器与气体歧管之间延伸贯穿提取板；以及被连接至气体歧管的残留物移除气体源。本发明也提供一种对衬底施加残留物移除气体的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 离子束 装置 气体 喷射 系统 | ||
【主权项】：
1.一种气体喷射系统，用于离子束装置，其特征在于，所述气体喷射系统包括：提取板，具有允许离子束通过所述提取板的提取孔；以及气体分配器，安置于在所述提取板中所形成的凹槽内且可移除地耦合至所述提取板，所述气体分配器中形成有气体孔口，所述提取板具有延伸贯穿所述提取板内部的气体导管，所述气体导管与所述凹槽流体连通，以对所述凹槽供应气体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瓦里安半导体设备公司，未经瓦里安半导体设备公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201680049111.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
