[发明专利]离子选择电极、其制作方法和电极盒有效
申请号: | 201680049256.9 | 申请日: | 2016-08-30 |
公开(公告)号: | CN107923866B | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
发明(设计)人: | 石毛悠;沃尔夫冈·舒曼;斯特凡·克林克 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立高新技术 |
主分类号: | G01N27/333 | 分类号: | G01N27/333 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: |
本发明提供一种具有高电位稳定性、电位再现性的固体接触型离子选择电极。其具有以第一族元素的离子、第二族元素的离子、水合氢离子或铵离子作为对象离子的离子感应膜101;离子吸储物质层102;以及导电性电极103,离子吸储物质层102中包含的离子吸储物质吸储有对象离子,离子吸储物质为结构式A |
||
搜索关键词: | 离子 选择 电极 制作方法 | ||
【主权项】:
一种离子选择电极,其具有:以第一族元素的离子、第二族元素的离子、水合氢离子或铵离子作为对象离子的离子感应膜;离子吸储物质层;以及导电性电极,所述离子吸储物质层中包含的离子吸储物质吸储有所述对象离子,所述离子吸储物质为结构式AaMx[M’(CN)6]y□z·kH2O所表示的普鲁士蓝类似物,A为一种或多种的第一族元素、第二族元素、水合氢或铵,M和M’为一种或多种的过渡金属,M或M’包含镍、钴、铜、银、镉中的至少一种,□为多孔配位高分子的空位,x、y大于0,a、z、k为0以上的数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立高新技术,未经株式会社日立高新技术许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201680049256.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。