[发明专利]用于向基材的表面提供涂覆层的设备和方法

摘要

本申请涉及用于向基材(1)的表面(1a)提供ALD涂覆层的设备和方法。该设备包括：用于涂覆基材(1)的表面(1a)的至少一个ALD涂覆单元(2)；用于解绕待涂覆的基材(1)的第一卷筒(3)；用于重新卷绕已涂覆的基材(1)的第二卷筒(4)；一个或多个主支撑结构(5)，一个或多个主支撑结构(5)设置成与待涂覆的表面(1a)或已涂覆的表面(1a)位于基材(1)的同一侧，用于形成从第一卷筒(3)经至少一个主支撑结构(5)到第二卷筒(4)的基材输送路径；以及与一个或多个主支撑结构(5)中的每一者相关的交错网状物(6)。所述交错网状物(8)设置为在基材(1)通过一个或多个主支撑结构(5)时保护待涂覆的表面(1a)或已涂覆的表面(1a)。所述交错网状物(6)设置为沿着基材输送路径的至少一部分与基材(1)一起移动。交错网状物(8)设置于一个或多个主支撑结构(5)中的每一者与待涂覆的表面(1a)或已涂覆的表面(1a)之间，使得待涂覆的表面(1a)或已涂覆的表面(1a)设置为沿着从第一卷筒(3)到第二卷筒(4)的基材输送路径仅与交错网状物(6)接触。

主权项

一种用于向基材(1)的表面(1a)提供涂覆层的设备，所述设备包括：‑至少一个原子层沉积方法‑涂覆单元(2)，在所述至少一个原子层沉积方法‑涂覆单元中，根据原子层沉积原理，使至少第一前驱体和第二前驱体在所述基材(1)的所述表面(1a)上进行连续表面反应，以便涂覆所述基材(1)的所述表面(1a)；‑第一卷筒(3)，所述第一卷筒用于解绕待涂覆的所述基材(1)；‑第二卷筒(4)，所述第二卷筒用于重新卷绕已涂覆的所述基材(1)；‑一个或多个主支撑结构(5)，所述一个或多个主支撑结构设置成与待涂覆的所述表面(1a)或已涂覆的所述表面(1a)位于所述基材(1)的同一侧，用于形成从所述第一卷筒(3)经所述至少一个主支撑结构(5)到所述第二卷筒(4)的基材输送路径；以及‑交错网状物(6)，所述交错网状物(6)与所述一个或多个主支撑结构(5)中的每一者相关，所述交错网状物(6)设置为在所述基材(1)通过所述一个或多个主支撑结构(5)时保护待涂覆的所述表面(1a)或已涂覆的所述表面(1a)，所述交错网状物(6)设置为沿着所述基材输送路径的至少一部分与所述基材(1)一起移动，所述交错网状物(6)设置于所述一个或多个主支撑结构(5)中的每一者与待涂覆的所述表面(1a)或已涂覆的所述表面(1a)之间，使得待涂覆的所述表面(1a)或已涂覆的所述表面(1a)设置为沿着从所述第一卷筒(3)到所述第二卷筒(4)的所述基材输送路径仅与所述交错网状物(6)接触。