[发明专利]处理装置和准直器有效
| 申请号： | 201680050126.7 | 申请日： | 2016-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN107923035B | 公开（公告）日： | 2020-06-16 |
| 发明（设计）人： | 德田祥典;野尻康弘;加藤视红磨;寺田贵洋;竹内将胜;青山德博 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;H01L21/203;H01L21/285 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 杨谦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 根据实施方式的一种处理装置包括容器、工件放置单元、准直器、和磁场产生单元。工件放置单元设置在容器内部，所述工件放置单元上能够放置供粒子堆叠的工件。所述准直器被设置在所述容器内部，并包括第一表面、与所述第一表面相反侧的第二表面、以及穿透所述第一表面和所述第二表面的通孔。所述磁场产生单元被设置在所述容器内部，并且在所述通孔内部，在所述第一表面和所述第二表面之间产生磁场。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 准直器 | ||
【主权项】：
一种处理装置，包括：容器；工件放置单元，所述工件放置单元被设置在所述容器内部，所述工件放置单元上能够放置供粒子堆叠的工件；准直器，所述准直器被设置在所述容器内部，并包括第一表面、与所述第一表面相反侧的第二表面、以及穿透所述第一表面和所述第二表面的通孔；以及磁场产生单元，所述磁场产生单元被设置在所述容器内部，并且在所述通孔内部，在所述第一表面和所述第二表面之间产生磁场。
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