[发明专利]超导装置和制造超导装置的方法有效
| 申请号： | 201680051203.0 | 申请日： | 2016-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN108139451B | 公开（公告）日： | 2021-05-04 |
| 发明（设计）人： | 维克托·梯克欧维科·佩特拉受维;克里斯多夫·切克雷 | 申请（专利权）人： | 皇家霍洛威和贝德福德新学院 |
| 主分类号： | G01R33/035 | 分类号： | G01R33/035 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 江海;姚开丽 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种量子干涉装置，包括被正常导体段中断的超导环路和连接到正常导体段的干涉仪，其中，超导环路包括多个匝。所述匝可以是多个相邻的瓣。线圈可以位于超导环路的瓣内。可选地，桥接层(例如由金制成的桥接层)形成在衬底上方，以在桥接层上方形成的超导层(例如由铌制成的超导层)和桥接层上方形成的正常导电层(例如由钛制成的正常导电层)之间形成电接触。桥接层使得该装置由原本不相容的超导材料和普通导电材料形成。可以使得钛正常导电层能够在数年的时间内氧化。 | ||
| 搜索关键词： | 超导 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种量子干涉装置，包括：被正常导体段中断的超导环路；以及连接到所述正常导体段的干涉仪，其中，所述超导环路包括多个匝。
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